I. Mathau o bowdr sgleinio
Mae powdr sgleinio fel arfer yn cynnwys alwminiwm ocsid, silicon ocsid, zirconium ocsid, cerium ocsid a chynhwysion eraill. Mae gan y deunyddiau hyn galedwch gwahanol a gwahanol briodweddau cemegol mewn dŵr, felly mae gan bob powdr sgleinio ei achlysur cais penodol. Er enghraifft, mae caledwch Mohs ocsid alwminiwm a zirconium ocsid mor uchel â 9, tra bod cerium ocsid a silicon ocsid yn 7, ac mae caledwch haearn ocsid hyd yn oed yn is. Yn benodol, mae gan cerium ocsid weithgaredd cemegol uchel gyda gwydr silicad, ac mae ei galedwch yn gymedrol, felly mae'n aml yn cael ei ddefnyddio'n helaeth yn y broses sgleinio o gynhyrchion gwydr.
II. Gofynion sylfaenol ar gyfer powdr sgleinio
(1) dylai maint gronynnau'r powdr micro fod yn unffurf ac yn gyson ac o fewn yr ystod benodol;
(2) mae purdeb uchel yn hanfodol i sicrhau nad oes unrhyw amhureddau mecanyddol;
(3) Mae gwasgariad da yn helpu i sicrhau prosesu unffurf ac effeithlon, a gellir gwella'r gyfradd atal trwy ychwanegu gwasgarwr cywir;
(4) dylai'r gronynnau powdr fod â morffoleg dellt benodol fel y gallant ffurfio ymylon miniog wrth eu torri, a thrwy hynny wella effeithlonrwydd sgleinio;
(5) Mae caledwch a dwysedd priodol, yn ogystal â gwlybaniaeth ac ataliad da â dŵr, i gyd yn nodweddion allweddol powdr sgleinio. Yn ogystal, mae gan bowdr sgleinio â maint gronynnau mawr rym malu cryfach ac mae'n fwy addas ar gyfer deunyddiau anoddach. Fodd bynnag, dylid nodi bod gan bob powdr sgleinio rai problemau dosbarthu ym maint gronynnau. Mae maint maint y gronynnau ar gyfartaledd neu ddiamedr canolrif D50 yn effeithio'n bennaf ar y cyflymder sgleinio, tra bod maint y gronynnau DMAX yn pennu'r cywirdeb sgleinio. Felly, er mwyn cyflawni effeithiau sgleinio manwl -, rhaid rheoli'n llym maint gronynnau'r powdr sgleinio. Efallai y bydd powdr sgleinio cyffredin yn cael problemau crafu oherwydd presenoldeb gronynnau mawr. Felly, argymhellir fel arfer dewis powdr caboli nano gydag ystod dosbarthu maint gronynnau cul (. Ar yr un pryd, y powder mân y powdr caboli, y mwyaf disglair fydd y deunydd caboledig.
Yn ystod y broses sgleinio, mae crynodiad y slyri yn cael effaith sylweddol ar y cyflymder sgleinio. Po uchaf yw'r crynodiad, yr uchaf yw'r cyflymder sgleinio. Fodd bynnag, wrth ddefnyddio powdr caboli gronynnau bach -, mae angen lleihau crynodiad y slyri yn briodol i sicrhau hylifedd cywir. Argymhellir yn gyffredinol reoli'r crynodiad slyri o fewn yr ystod o 7-10%.
3. Dewis mowld sgleinio
Yn ystod y broses sgleinio, mae'n hanfodol dewis mowld sgleinio addas. Yn gyffredinol, argymhellir defnyddio mowld sgleinio gyda gwead meddalach i sicrhau ansawdd yr effaith sgleinio. Mae'n werth nodi bod llawer o badiau sgleinio polywrethan yn gymysg â phowdr sgleinio cerium ocsid, a bydd maint gronynnau'r powdr caboli hwn yn effeithio'n uniongyrchol ar ansawdd caboli terfynol. gradd. Wrth gwrs, yn ogystal â caboli mowldiau gyda phowdr sgleinio ychwanegol, mae yna hefyd fowldiau sgleinio heb bowdr sgleinio fel olwynion sbwng ac olwynion gwlân i ddewis ohonynt.
Iv. Dangosyddion sy'n effeithio ar berfformiad powdr sgleinio
Mae dangosyddion lluosog yn effeithio ar berfformiad powdr sgleinio. Yn gyntaf, rhaid cadw maint gronynnau'r powdr sgleinio iwnifform ac o fewn yr ystod benodol i sicrhau unffurfiaeth ac effeithlonrwydd prosesu. Yn ail, mae purdeb uchel yn hanfodol i atal dylanwad amhureddau mecanyddol ar yr effaith sgleinio. Yn ogystal, mae gwasgariad da, caledwch a dwysedd priodol, a gwlybaniaeth ac ataliad da â dŵr i gyd yn ffactorau pwysig sy'n effeithio ar berfformiad powdr sgleinio. Ar yr un pryd, mae gan bowdr sgleinio â maint gronynnau mawr rym malu cryfach ac mae'n addas ar gyfer deunyddiau anoddach, ond dylid rhoi sylw i effaith dosbarthiad maint gronynnau ar gyflymder caboli a chywirdeb. Yn olaf, crynodiad y slyri y bydd hefyd yn effeithio ar y cyflymder a'r effaith sgleinio, yn enwedig wrth ddefnyddio powdr caboli gronynnau bach -, mae angen addasu'r crynodiad slyri yn briodol i gynnal hylifedd priodol.
1. Maint gronynnau powdr: Mae maint gronynnau ac unffurfiaeth yn hanfodol i gyflymder caboli a manwl gywirdeb. Gall maint rhwyll y gogr reoli maint gronynnau powdr, tra bod maint y gronynnau ar gyfartaledd yn adlewyrchu lefel gyffredinol y gronynnau powdr sgleinio.
2. Caledwch powdr: Mae powdrau â chaledwch uwch yn cael effeithiau torri cyflymach, a gall ychwanegu cymhorthion malu hefyd wella effeithiau torri. Fodd bynnag, dylid nodi bod gan wahanol feysydd cymwysiadau a thechnolegau prosesu wahanol ofynion ar gyfer caledwch.
3. Atal powdr: Mae ataliad da yn hanfodol ar gyfer powdr sgleinio. Bydd siâp powdr a maint gronynnau yn effeithio ar ei ataliad. Nano - Mae powdr caboli gronynnau yn perfformio'n well yn hyn o beth, felly defnyddir nano - powdr sgleinio yn aml ar gyfer sgleinio mân.
4. Ffurf grisial powdr: Mae'r powdr yn cynnwys gronynnau grisial sengl crynhoad, a fydd yn gwahanu yn ystod y broses sgleinio, gan effeithio ar berfformiad torri, gwisgo ymwrthedd a hylifedd y powdr. Mae powdr caboli gronynnau sfferig yn perfformio'n well yn yr agweddau hyn.
V. Segmentu Ystod Sgleinio:
Mae deunyddiau sgleinio mân cyffredin ar y farchnad yn cynnwys powdr sgleinio alwmina, powdr caboli cerium ocsid a phowdr caboli ocsid silicon, ac ati, sy'n chwarae rhan bwysig yn eu priod feysydd cymhwysiad.
1. Cymhwyso powdr sgleinio alwmina:
Mae powdr sgleinio alwmina yn chwarae rhan bwysig mewn sawl maes. Fe'i defnyddir yn aml ar gyfer sgleinio cerrig, alwminiwm, dur gwrthstaen, haearn bwrw, aloi titaniwm, yn ogystal â dadansoddiad metelaidd, sgleinio drych paent modurol, sgleinio resin a sgleinio gemstone. Mae ei nodweddion gronynnau sfferig yn gwneud maint y gronynnau yn ddim ond 0.3um, gan sicrhau effaith sgleinio ragorol.
2. Cymhwyso powdr sgleinio silica:
Defnyddir powdr sgleinio silica, gyda maint gronynnau o 50nm fel arfer, yn aml yn y broses sgleinio o grisialau artiffisial, cerrig gemau a chynhyrchion metel i atgyweirio eu diffygion bach.
3. Application of cerium oxide polishing powder or polishing liquid: This kind of polishing powder or polishing liquid, the primary particle size is usually controlled at 20-30nm, and the secondary particle size is required to reach 0.2um, which is very suitable for polishing lenses, TV picture tubes, glasses, wafers and various optical components, optical fibers, art glass, electronic glass and flat glass.